5月9日音问，据集微网报说念，“据报说念，上海微电子装备(集团)股份有限公司(SMEE)自主研发的系列28nm浸没式DUV光刻机，近日完成首批批量托付，参预量产工艺考证阶段。”在该音问发布之后，坐窝激勉了业内的热议。可是，芯智讯在过程与光刻机及晶圆制造企业关连东说念主士讨论后发现，该著作里面老实容似乎存在不少事实问题。1、集微的报说念并未给出具体的信源，只说“据报说念”，到底是据哪家真是的媒体报说念，根蒂没提。这不适合这种新闻的严肃性。

2、报说念称“2026年1月，上海微电子在长三角半导体产业峰会上，初度官宣SSA800系列罢了全面量产。”

可是，这个所谓的“长三角半导体产业峰会”根蒂莫得任何巨擘媒体的关连报说念，也查不到具体的举办时间、地点、垄断方及与会嘉宾和企业。更别说什么“上海微电子官宣”了，上海微电子的官方从未精良表现过上述音问。

天然网上约略找到本年1月一些自媒对于“长三角半导体产业峰会”的音问，可是也沿途皆是与“上海微电子官宣SSA800系列量产”绑定的信息。那时，笔者也联系注到过这个音问，可是以为是“小作文”，商场也有过一轮基于这个音问炒作光刻机主意股。

3、报说念还指出“2026年3月，在SEMICON China2026外洋半导体博览会上，上海微电子初度公开展示了该机型。”

关联词，芯智讯在SEMICON China2026外洋半导体博览会有去过上海微电子的展台，现场根蒂就莫得展示所谓的样机。而况在展会时间和展会扫尾后的一段时间，也根蒂莫得关连媒体报说念此事。

△芯智讯在SEMICON China2026展会上海微电子展台拍摄的相片

4、报说念称“SSA800系列选定193nm ArF浸没式光刻工夫，单次曝光原生守旧28nm制程，OD体育app官网最新版可通过多重曝光工艺踏实罢了 14nm 乃至更先进的工艺出产。设立套刻精度截至在2.3~2.5nm，量产良率踏实在90%~95%区间，每小时可科罚150片晶圆。”

据芯智讯了解，SSA800本体上即是近几年商场一直外传的国产“28nm光刻机”，是一款193nm ArF浸没式光刻机，对场地是ASML TWINSCAN NXT:1950i。此后者的专用卡盘套刻精度为2.5nm，夹杂匹配套刻精度为3.5nm，每小时可科罚200片晶圆。是以，说SSA800系列套刻精度截至在2.3~2.5nm，每小时可科罚150片晶圆，应该是大差不差。

不外，说SSA800系列的“量产良率踏实在90%~95%区间”似乎是有点离谱了。因为光刻机自己并莫得所谓的“量产良率”的说法。

一位光刻机厂商里面东说念主士对芯智讯直言：“这是假音问，光刻机那边来的良率。”即便说的是在产线上替代ASML光刻机后芯片最终产出的量产良率也很夸张。

要知说念台积电的28nm是在2011年量产的，之后履历较长的良率爬坡阵痛期。2012年上半年，英伟达和高通皆曾公开悔怨良率不及、产能吃紧。到2012年8月，中国台湾媒体财征引供应商音问称良率已普及至逾越80%。

一位国内晶圆代工场里面东说念主士告诉芯智讯，当今SSA800系列并未参预国内的交易化晶圆厂，似乎也曾在“ICRD”进行测考研证。是以何来的量产批量托付，何来的“90%~95%”量产良率？

期盼国产光刻机得回破裂，是每一个缓和中国科技发展的东说念主最朴素的情怀。咱们渴慕看到“卡脖子”清单上的技俩被一项项划掉，也渴慕听到国产设立在先进制程上得回破裂的音问。可是，这种渴慕越是热烈，就越应该守住感性的底线。造作的、自嗨的音问，伤害的是公众对真是发达的判断力，也结巴了产业链高下流一步一个脚印攻坚的严肃性。真是的解围，从来不需要靠造作的“放卫星”来讲解我方，时间会给出最诚实的谜底。

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